1.3 電解拋光 電解拋光基本原理與化學(xué)拋光相同,即靠選擇性的溶解材料表面微小凸出部分,使表面光滑。與化學(xué)拋光相比,可以消除陰極反應(yīng)的影響,效果較好。
電化學(xué)拋光過(guò)程分為兩步: (1)宏觀整平 溶解產(chǎn)物向電解液中擴(kuò)散,材料表面幾何粗糙下降,Ra>1μm。 (2)微光平整 陽(yáng)極極化,表面光亮度提高,Ra<1μm。
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